好几个月来的行业新闻不断,最让人捏把汗的就是三星的14nm竟然比鄙公司的16nm量产还早?这梁先生果然不是吃素的。坦白讲,听着这些口舌之战的新闻刚开始不以为然,可是后来又有14nm的已经量产自家的Exynos处理器,接着又赢得了苹果将近一半以上的A9订单,着实让我们这些圈内人士惶惶不可终日,难道我们要走向Qualcom的没落之路?技术领先优势已不再?这一行压力就在这,如果没有技术壁垒,天天怕被超越。
直到9月14日,官方正式宣布(中新网9月14日《工商时报》报道),击退三星,台积电独家取得苹果16奈米制程的A10处理器订单,明年3月开始量产投片,未来营收及获利可望续创历史新高。我们才真的彻底松了口气,突然间再也没有14nm的新闻了,说来也奇怪。(最近的14nm都是GF和IMEC和SMIC合作开发的,但是IMEC只是专利技术顾问不参与研发,GF技术是三星授权的,估计SMIC的路还很长~)
好吧,且不说人家良率只有50%不到,而我们的良率已经超过80%了。再仔细阅读新闻,tsmc的制程技术还是16nm FinFET+,主要是增加了封装的技术InFO (Integrated Fan-Out:整合扇出封装),以前一直以为制程技术是关键,其实公司一直在布局More than Moore,翻阅公司2014年年报(除了矽晶元件的微縮,台積公司正透過先進封裝技術進行系統微縮,以增加系統傳輸頻寬、減少功耗及縮小元件尺寸。台積公司持續擴展CoWoS 技術應用範圍,從可編程邏輯閘陣列(FPGA)應用延伸至網路及高性能運算應用,其中高性能運算應用在上層晶粒製程是採用20SoC及16FF+技術。同時,台積公司亦開發出整合扇出型(Integrated Fan-Out,InFO)技術,支援例如行動及消費性產品之應用。目前正在驗證16奈米InFO產品,預計民國一百零五年量產;第二代InFO技術亦正在開發中,以協助10奈米製程進一步微縮晶片面積。)。今天就来和大家一起学习一下这个InFO技术吧,这到底是个啥?
Fan-out封装最早在2009~2010年由Intel Mobil提出,仅用于手机基带芯片封装,后来到2013年由于WLCSP的兴起,最终宣布放弃。在32nm、28nm时代,WLP封装几乎还处于RDL(晶圆线路重布), Bump(凸点倒装),TSV(硅穿孔)等封装技术,而在28nm以下,主要的封装技术有WLCSP,Fan-out WLP,TSV,POP(叠层封装),其中叠层封装与TSV封装差别是后者需要在chip边缘打孔引线。而WLCSP封装主要是在die saw之前先做封装,封装好再进行切割,这样封装后的面积几乎与chip相近,适合sensor和portable等小尺寸外观封装,更有后来发展的UBM-free封装(无凸点金属)技术带来的极薄封装(凸点只有0.5mm)。
为了抢进高阶封装领域,tsmc在2013年开发出CoWoS封装技术(Chip on Wafer on Substrate),准备以低成本占领20nm制程的封装市场,主攻高复杂度的存储器堆栈,他可以同时容纳3~4个FPGA并行排列。不过后来因为良率不堪,成本问题只有FPGA的Xilinx公司采用,并且后来都纷纷转用叠层封装(PoP),让日月光和矽品抢了单子了。其中包括苹果的A7处理器也是舍弃CoWoS技术转PoP封装。
再后来就是我们现在的InFO了,我们前面不管是CoWoS,还是PoP技术以及穿通的封装技术,都是需要基板(Substrate),而这个InFO技术的高明之处在于它舍弃了基板,光这一点芯片的cost就节省了20~30%(基板占封装成本的50%),这只是第一个诱人的,它还不足以让追求卓越的苹果抛橄榄枝。当然钱不是最重要的,好戏还在后头呢。
首先,它由于抛弃了基板,他需要采用晶圆化学处理方式,这样在连接时的接合密度(Interconnect Density)比原来的CSP(Chip Scale Package)高,所以封装的引脚密度高。
其次,由于抛弃了基板,芯片厚度降低了0.2mm (20%),传统的PoP叠层封装厚度是~1.2mm,所以更轻薄,更有利于散热和低功耗。
还有呢,基板封装主要的问题是基板和芯片的应力匹配问题,必须要加入一种填充料来缓解,而无基板则不存在这些问题,不管是从应力还是从pin脚分布都是优势。
有了上面这些优点,我就不信还不能打动苹果,这样tsmc赢得A10的订单就不足为奇了吧。未来16nm FF+搭配InFO的turnkey技术还会占领64位应用处理器以及运算处理及低功耗市场,还有x86和ARM架构的处理器市场,所以说16nm FF+和InFO组合会再次复制当年28nm HKMG的辉煌的,让我们拭目以待吧。
另外,简单讲一些最近学到的关于封装的知识,分享给大家:
1. 既然有Fan-out,那一定有Fan-in?
对的,与Fan-out对应的就是Fan-in,前者叫扇出,后者叫扇入,差别在于Fan-in只能允许引脚的solder ball只能在chip表面下方,而Fan-out通过Epoxy浇铸(Epoxy Mold Compound )允许引脚超过chip,所以可支持更多引脚。它属于die-level package和Wafer-Level package的折中,它先做die saw,然后把它们放到人工做好的Epoxy做的EMC板上即可。
2. 什么叫2.5D和3D封装?
2.5D主要指平行排列在同一个基板上的两个或多个chip,比如CoWoS就是并行排列了3~4 FPGA,还有一个就是AMD的HBM(High bandwidth Memory)绘图处理器(GPU)技术。而3D IC则是纯的纵向堆叠的封装技术,主要代表为TSV和PoP技术。
3. tsmc与日月光的封装技术不同在哪里?
tsmc主要发展晶圆级封装技术,而日月光主要布局基板极的嵌入式整合技术,希望在单一基板上整合更多裸晶,这两个如果互补应该很厉害,先晶圆级封装好,再给基板极封装,应该就是未来的系统级封装(SiP: System in a Package),据说苹果的iPhone7以后就要用SiP封装了,这样就没有PCB版了,所有的芯片都会封装在一个芯片里面,省出了大量PCB的空间摆放容量更大的电池和传感设备等。
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